纳米加工选用电子束光刻的参数

发布日期：2022-05-24      浏览次数：739

 

企业介绍：Raith 是纳米加工、电子束光刻、FIB SEM 纳米加工、纳米工程和逆向工程应用的精密技术制造商。
客户包括涉及纳米技术研究和材料科学各个领域的和其他组织，以及将纳米技术用于特定产品应用或生产化合物半导体的工业和中型企业。
Raith 成立于 1980 年，总部位于德国多特蒙德，拥有 250 多名员工

英国raith电子束光刻应用：化合物半导体器件

光电

衍射光学元件

集成电路分析

纳米科学

微工程和纳米工程

量子技术

纳米光子学


英国raith电子束光刻产品：
电子束光刻系统
EBL系统
FIB-SEM系统
大面积SEM成像
纳米光刻升级套件
无掩模激光光刻系统

英国raith电子束光刻产品型号：
EBPG Plus
VOYAGER
Raith150
eLINE Plus
PIONEER Two

英国raith电子束光刻产品描述：
具有分辨率和热屏蔽的电子束写入器
RAITH150 Two 已成为通用高分辨率电子束光刻系统的产品。它在的研究和纳米技术得到应用，并已证明其在24/7 全天候使用中的稳健性。RAITH150 两电子束写入器旨在帮助从面向单一器件的研究向小批量纳米器件制造的过渡，从而弥合学术和工业研发之间在工业设备原型设计方面的差距应用程序。

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产品属性
分辨率电子束光刻
·自动晶圆级电子束写入
·30 kV Gemini 柱技术
·低电压曝光和成像
·隔热罩，和
·*的分室设置，
RAITH150 Two 可以曝光小于 5 nm的结构，适用于从几毫米到8 英寸晶圆的样品尺寸。
凭借其低 kV 成像能力，RAITH150 两电子束写入器还允许对表面敏感的高分辨率检测和过程控制。利用 SEM 成像和尺寸计量的所有软件功能，可以使用与器件制造相同的工具有效地缩短器件优化过程。

特点：
线宽
数字模式发生器
样品处理
≤8纳米
20兆赫